伯東公司 主要經營產品德國 Pfeiffer 渦輪分子泵, 干式真空泵, 羅茨真空泵, 旋片真空泵; 應用于各種條件下的真空測量(真空計, 真空規管);氦質譜檢漏儀;質譜分析儀;真空系統以及美國Brooks CTI Cryopump 冷凝泵/低溫泵, HVA 真空閥門, Polycold 冷凍機和美國KRI 離子源,Gamma離子泵.
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伯東 KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP380 濺射制備 VO2 薄膜
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下一篇 2021-01-04 15:50:04/ 個人分類:離子源
VO2 薄膜作為一種熱門的功能材料, 具有優秀的相變特性和電阻開關特性, 在微測輻射熱
計、光存儲器等光學器件領域具有廣泛的應用前景.
天津某材料制造商采用伯東 KRI 射頻離子源 RFICP380 輔助磁控濺射沉積制備 VO2 薄膜, 以獲得均勻性好, 沾污少, 附著力強, 較高的透過率的 VO2 薄膜.
KRI 射頻離子源 RFICP380 技術參數:
射頻離子源型號 | RFICP380 |
Discharge 陽極 | 射頻 RFICP |
離子束流 | >1500 mA |
離子動能 | 100-1200 V |
柵極直徑 | 30 cm Φ |
離子束 | 聚焦, 平行, 散射 |
流量 | 15-50 sccm |
通氣 | Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他 |
典型壓力 | < 0.5m Torr |
長度 | 39 cm |
直徑 | 59 cm |
中和器 | LFN 2000 |

客戶采用 KRI 考夫曼射頻離子源 RFCIP380 產生離子束不斷轟擊源極靶材和工件, 工件在離子束轟擊下迅速被加熱至高溫, 源極靶材在轟擊作用下濺射出的合金元素不斷奔向工件表面, 經沉積擴散過程形成一定厚度的涂層.
KRI 射頻離子源 RFICP380 運行結果:
1. 獲得的薄膜在可見光波段具有較高的透過率
2. 薄膜較為平整且對可見光的透過率較高為38%, 退火處理提高了薄膜的結晶性和透過率
3. 制備出單斜結構的VO2薄膜, 且具有晶面擇優取向
4. 制備的薄膜均勻性好, 沾污少, 附著力強, 沉積速率大, 效率高
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TAG: krirficp380伯東射頻離子源考夫曼vo2薄膜