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  • 伯東公司 主要經營產品德國 Pfeiffer 渦輪分子泵, 干式真空泵, 羅茨真空泵, 旋片真空泵; 應用于各種條件下的真空測量(真空計, 真空規管);氦質譜檢漏儀;質譜分析儀;真空系統以及美國Brooks CTI Cryopump 冷凝泵/低溫泵, HVA 真空閥門, Polycold 冷凍機和美國KRI 離子源,Gamma離子泵. 網站: www.hakuto-vacuum.cn TEL: +86 (021) 5046-3511轉106 Fax : +86 (021) 5046-1490 E-mail: ec@hakuto-vacuum.cn

    伯東 KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP380 濺射制備 VO2 薄膜

    上一篇 / 下一篇  2021-01-04 15:50:04/ 個人分類:離子源

    VO薄膜作為一種熱門的功能材料具有優秀的相變特性和電阻開關特性在微測輻射熱計、光存儲器等光學器件領域具有廣泛的應用前景.

     

    天津某材料制造商采用伯東 KRI 射頻離子源 RFICP380 輔助磁控濺射沉積制備 VO2 薄膜以獲得均勻性好沾污少附著力強較高的透過率的 VO薄膜.

     

    KRI 射頻離子源 RFICP380 技術參數:

    射頻離子源型號

    RFICP380

    Discharge 陽極

    射頻 RFICP

    離子束流

    >1500 mA

    離子動能

    100-1200 V

    柵極直徑

    30 cm Φ

    離子束

    聚焦平行散射

    流量

    15-50 sccm

    通氣

    Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他

    典型壓力

    < 0.5m Torr

    長度

    39 cm

    直徑

    59 cm

    中和器

    LFN 2000

     

    客戶采用 KRI 考夫曼射頻離子源 RFCIP380 產生離子束不斷轟擊源極靶材和工件工件在離子束轟擊下迅速被加熱至高溫源極靶材在轟擊作用下濺射出的合金元素不斷奔向工件表面經沉積擴散過程形成一定厚度的涂層.

     

    KRI 射頻離子源 RFICP380 運行結果:

    1. 獲得的薄膜在可見光波段具有較高的透過率

    2. 薄膜較為平整且對可見光的透過率較高為38%退火處理提高了薄膜的結晶性和透過率

    3. 制備出單斜結構的VO2薄膜且具有晶面擇優取向

    4. 制備的薄膜均勻性好沾污少附著力強沉積速率大效率高

    TAG: krirficp380伯東射頻離子源考夫曼vo2薄膜

     

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