伯東公司 主要經營產品德國 Pfeiffer 渦輪分子泵, 干式真空泵, 羅茨真空泵, 旋片真空泵; 應用于各種條件下的真空測量(真空計, 真空規管);氦質譜檢漏儀；質譜分析儀；真空系統以及美國Brooks CTI Cryopump 冷凝泵/低溫泵, HVA 真空閥門, Polycold 冷凍機和美國KRI 離子源,Gamma離子泵.
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Hakuto 全自動離子刻蝕機 MEL3100 用于刻蝕薄膜磁盤
上一篇 / 下一篇 2020-11-25 15:51:57/ 個人分類：離子刻蝕機
Hakuto 全自動離子刻蝕機 MEL3100 用于刻蝕薄膜磁盤
某薄膜磁盤制造采用Hakuto 全自動離子刻蝕機 MEL3100 用于刻蝕薄膜磁盤, 去除濺射鍍制磁盤薄膜的污染物和提高薄膜的均勻性.
Hakuto 全自動離子刻蝕機 MEL 3100 技術參數:
Model | MEL3100 |
| Main body | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
Wafer size | 3"～6" |
| Power | AC200V 3ph 40A | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
Wafer per batch | 1 wafer |
| *two lines | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
Cassette | No. | 25 wafers |
| Cooling | 15 (l/min) | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
Q'ty | 1pc. |
| <20℃ | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
Throughput | 10 (wafer/hr) *1 |
| CDA | 0.5 (MPa) | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
Pressure | Ultimate | 8×10-5 (Pa) *2 |
| >10 (l/min) | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
Process | 2×10-2 (Pa) *2 |
| N2 | 0.2 (MPa) | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
Etching | Rate | >10 (nm/min)@SiO2 *3 |
| >40 (l/min) | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
Uniformity | ±5%@132mm (6") *3 |
| Ar | 0.2 (MPa) | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
Wafer surface temp. | <100℃ *3 |
| 20 (sccm) | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
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