X射線衍射里特沃爾德全譜圖擬合法測定粉塵中游離的SiO2
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下一篇 2008-09-11 15:05:52/ 個人分類:分析化學
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- 運行平臺: Win9X/Win2000/WinXP
應用X射線衍射技術與Rietveld全譜圖擬合法
測定了粉塵中游離SiO2 的含量,并同時得到粉塵樣品中其它晶相和非晶相物質的含量。實驗采用
日本理學D /MAX 2500V型X射線衍射儀, CuKα輻射帶石墨單色器,管電壓44 kV,管電流150 mA,步進掃描收集衍射數據,經Jade 5. 0軟件定性
分析, DBWS9807a軟件定量分析,結果為: Rp平均等于11. 29% , Rwp平均等于13. 74% , Rexpected平均等于4. 04%。SiO2 在各樣品中的含量為15. 61% ~37. 83%;加標回收率為102. 6%~119. 9%;重現性測定相對
標準偏差(RSD)為1114%。結果表明:用Rietveld全譜圖擬合法測定粉塵中游離SiO2 的含量是一種快速、準確、方便的方法。
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TAG: 二氧化硅非晶體