熒光淬滅是什么?什么原理？
熒光猝滅是熒光物質分子與溶劑分子之間發生猝滅，熒光猝滅分為靜態猝滅和動態猝滅。利用某種物質對某一種熒光物質的熒光猝滅作用而建立的對該猝滅劑的熒光測定方法，即為熒光猝滅法。
熒光分子本身濃度增大使其熒光猝滅的現象稱為濃度猝滅或自猝滅。由于熒光的再吸收、熒光物質發生化學變化而觀察不到熒光的現象一般不稱為熒光猝滅。在利用熒光進行定量、液體閃擊計數等包含熒光過程的測定方法中，一定要注意溶劑、共存雜質、氧氣等猝滅劑的影響。
熒光淬滅注意事項
標記樣品的熒光淬滅是在熒光顯微鏡和激光共聚焦顯微鏡觀察時遇到的主要問題。由于激光掃描共聚焦顯微鏡具有更強的功率和聚焦更準確的光束，與普通熒光顯微鏡相比，標本的光漂白作用更為明顯，熒光素的熒光可在連續觀察過程中逐漸減弱或消失。
因此，應考慮使用抗熒光淬滅劑(抗熒光衰減劑)。常用抗熒光淬滅劑有P-苯二胺(Para-phenylene diamine，PPD)、n-丙基沒食子酸鹽(propyl gallate，NPG)、1，4-二偶氮雙環[2，2，2)-辛烷(1，4-diazobicyelo(2，2，2)-octane，DABCO)等。
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