X射線熒光光譜法---痕量元素測定
在物質成分的分析方面主要包括克服基體效應的基礎研究和擴大分析應用范圍兩方面。現在，基體效應的數學校正法正在通過校正模型的更深入研究和計算機軟件的進一步開發，向更高水平的方向發展。而且,隨著制樣技術的逐步自動化,各種物理化學前處理方法的改進，對于擴大分析含量范圍，包括進一步開展痕量元素測定等工作，在各應用部門中仍然有著發展的前景。
在化學態研究方面，隨著固體電子能譜和量子化學理論的發展和電子計算機在X射線能譜解釋中的應用,這種研究正在繼續朝著定量計算的方向前進，不僅在晶體物質方面，而且在非晶型物質方面，包括高分子化合物、配位化合物及其他溶液、非單原子氣體等，其應用將與日俱增。
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