光刻機為什么一定用紫外線
光刻機采用激光將圖形刻印在半導體上，但光是電磁波，不同的光線具有不同的波長。
如果需要刻印的圖形非常微小，而采用的光線波長較大，則刻不出想要的圖形。
就像你不能用拖把（書寫痕跡粗大）在田字格本上寫毛筆字（筆劃細小）。
現在的芯片集成度越來越高，最高端的芯片工藝已經到了2nm級別。
而可見光波長在780nm（紅）～400nm（紫）之間，刻不出小于400nm的圖形。
紫外線波長在400nm～10nm之間，采用極紫光才可能刻印10nm寬的線條。
現在最高集成度的芯片，都在10nm以下，已經屬于X射線范疇了。
推薦
