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安捷倫科技（中國）有限公司
| 產地類別：國產 | 組件類別：光學元件 |
紅外光學元件類-紅外鏡片光刻
硒化鋅光刻
技術要求 | 公差范圍 |
刻畫小線寬 | 1.5um |
刻畫大面積 | 180mm |
刻畫圖案誤差 | ±0.5um（根據刻畫面積而定） |
刻畫深度 | 0.05um -10um（根據圖案寬度而定） |
刻畫深度誤差 | ±0.001um |
材料 | 硅、鍺、硒化鋅、硫化鋅等紅外材料 |
我們可以根據客戶要求，在紅外材料拋光基片表面 加工碼盤,相位光柵,投射光柵，反射光柵、分劃版,分辨 率版等產品 | |
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注：該產品未在中華人民共和國食品藥品監督管理部門申請醫療器械注冊和備案，不可用于臨床診斷或治療等相關用途。
